报告题目™️：超越远场衍射极限的三维纳米光刻Three-dimensional nanolithography by overcoming the diffraction limit-Simulation, demonstration, application and future development 主讲人：甘棕松博士，澳大利亚斯威本科技大学 时间： 2016年3月3日（周四）下午4：10 地点🦸🏿： 光仪所二楼会议室 邀请人： 张大伟教授 报告摘要： 常规单光束激光加工技术具有优异的三维加工能力🧑🏻🦲，是微纳尺度下普遍使用的三维结构加工技术⬅️。然而由于存在远场光学衍射极限👼🏼，使用该技术加工仅能实现亚波长量级的分辨率▫️，因而并不具备100纳米尺度下三维纳米结构的加工能力。常见的电子束刻蚀，离子束刻蚀🧑🏻🍼，深紫外光刻等二维加工技术，具有卓越的分辨率，然而使用这些技术加工不具备天然的三维纳米加工能力。如果能够突破单光束激光加工技术中存在的衍射极限，使之实现与电子束刻蚀，离子束刻蚀，深紫外光刻等同等的加工分辨率，则能够发展出一种集三维加工能力与高分辨于一体的新型三维纳米制造技术。本报告介绍实现远场超衍射极限三维纳米光刻的思路，方法，应用和未来发展📭。 讲座人简介： 甘棕松，男，1985年1月出生😵，南开大学物理学专业本科,澳大利亚斯威本科技大学博士🎽，现在澳大利亚斯威本科技大学微光子学中心从事博士后研究工作🩰。其本人长期致力于超分辨光学精密制造及超高密度光存储技术的研究工作。首次在全球实现了创纪录的单线9纳米👩🏻🦯👮🏻♀️，双线中心间距52纳米的三维光刻🤛🏽，从实验上证实了激光精密制造的分辨率能够突破衍射极限👷🤦♂️，并具有理论上无限提高分辨率的可能。由于该技术在三维纳米加工，半导体芯片制造👨🏻🎓，大数据存储等方面具有巨大的应用前景，在论文发表以来，立即受到世界学术界，产业界以及大众媒体的多方关注。芯片制造技术和数据存储技术被视为影响今后信息产业的关键基础技术。后将超衍射极限光学精密制造应用于大数据存储技术，首次实现了单盘1PB（1000TB = 1,000,000 GB）存储能力的技术飞跃🙆🏻，获得全世界各主要语言的媒体报道，各类报道和转载超过500次💓，评论和分享超过2,000,000次，引发全球广泛关注。近五年以第一作者或通讯作者在Nature Communication, Scientific Report, APL, OE等国际权威期刊共发表学术论文10余篇。 2013年，荣澳大利亚最具荣誉的青年研究员项目资助(SIEF John Stocker Research Fellow)，从事超高密度光存储在大数据存储中的应用研究。 2014年🤸🏽♀️，荣获维多利亚州优秀青年称号（Victoria fellowship）。